【摘 要】
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用电镀法制备了尺寸小于100μm的面阵列Sn-3．0Ag凸点．芯片内凸点的高度一致性约1．42％，0100mm硅圆片内的高度一致性约3．57％，Ag元素在凸点中分布均匀．研究了不同回流次数下SnAg／Cu的界面
【机 构】
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中国科学院上海微系统与信息技术研究所,中国科学院研究生院
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用电镀法制备了尺寸小于100μm的面阵列Sn-3．0Ag凸点．芯片内凸点的高度一致性约1．42％，0100mm硅圆片内的高度一致性约3．57％，Ag元素在凸点中分布均匀．研究了不同回流次数下SnAg／Cu的界面反应和孔洞形成机理，及其对凸点连接可靠性的影响．回流过程中SnAg与Cu之间Cu6Sns相的生长与奥氏熟化过程相似．SnAg／Cu6Sn。界面中孔洞形成的主要原因是相转变过程中发生的体积缩减．凸点的剪切强度随着回流次数的增多而增大，且多次回流后SnAg／Cu界面仍然结合牢固．cusSn5／Cu平直界
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