【摘 要】
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<正> 当今扫描电镜多利用10—30KV的加速电压工作,可以获得分辨高、信噪比好的图象。近年来,半导体工业的迅速发展,大规模集成电路日趋复杂,尺寸更加密集,利用光学和机械探针
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<正> 当今扫描电镜多利用10—30KV的加速电压工作,可以获得分辨高、信噪比好的图象。近年来,半导体工业的迅速发展,大规模集成电路日趋复杂,尺寸更加密集,利用光学和机械探针检测已不能满足要求,而扫描电镜逐渐成为必不可少的常规检测工具了。在低加速电压(简称低电压)下直接检测未镀导电膜层的集成电路或硅片,促进了低电压扫描电子显微术(LVSEM)的发展。各制造厂商先后推出具备低电压操作的新型扫描电镜,即利用1—3KV或更低的电压进行检测,获得高质量图象。
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