非平衡磁控溅射技术制备用于红外减反射的无氢碳膜

来源 :材料科学与工程学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:resumestd
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红外减反射保护膜具有特定的厚度要求,如能进一步减小无氢类金刚石膜(DLC)的光学吸收,就能使其在较大厚度时不过分损失光通量而得以广泛应用。从这点来讲,无氢类金刚石膜是一种极具开发潜力的材料。本文采用非平衡磁控溅射技术(UBMS)制备了无氢类金刚石膜,并研究了其厚度均匀性。研究结果表明:该非平衡磁控溅射装置有能力获得大于69150mm的均匀性范围。对DLC膜红外透射谱的分析表明,分别在Si和Ge基底表面单面制备的DLC薄膜,其峰值透射率在波数2983/cm时分别为68.83%和63.05%,这一结果接近无吸
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