【摘 要】
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采用磁控溅射技术制备了铬镀层，利用X射线衍射仪研究了铬镀层的物相和择优生长取向，并结合扫描电子显微镜和透射电子显微镜观察、分析了铬镀层的微观组织结构。研究结果表明：磁
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采用磁控溅射技术制备了铬镀层，利用X射线衍射仪研究了铬镀层的物相和择优生长取向，并结合扫描电子显微镜和透射电子显微镜观察、分析了铬镀层的微观组织结构。研究结果表明：磁控溅射铬镀层呈多晶态结构，以Cr（110）晶面为择优生长面；铬镀层截面呈柱状生长特性，在沉积的最初阶段即形核晶化，随着沉积时间的延长，晶化程度逐渐提高。
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