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采用射频磁控溅射法制备了含纳米锗的氧化硅复合薄膜.在室温下对不同温度退火的样品测量了光致发光谱, 其发光峰位均位于580nm.通过对样品所作的拉曼散射光谱的拟合,确定出了样品中纳米锗的尺寸,并发现纳米锗的平均尺寸随温度退火的升高在增大.
溅射含纳米锗氧化硅复合薄膜的光致发光和拉曼特性
【摘 要】
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采用射频磁控溅射法制备了含纳米锗的氧化硅复合薄膜.在室温下对不同温度退火的样品测量了光致发光谱, 其发光峰位均位于580nm.通过对样品所作的拉曼散射光谱的拟合,确定出了
【机 构】
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西北师范大学物理与电子工程学院
【出 处】
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西北师范大学学报：自然科学版
【发表日期】
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2002年3期
【基金项目】
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甘肃省教育厅科研项目，西北师范大学校科研和教改项目，西北师范大学校科研和教改项目
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