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TaOx薄膜在VOx薄膜离子注入/抽出性能研究中的应用
TaOx薄膜在VOx薄膜离子注入/抽出性能研究中的应用
来源 :真空科学与技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:HUAXIAHK
【摘 要】
:
利用在可见光 谱具有高透射比的TaOx离 体薄膜作为保护层,研究了水与溶液发生化学反应的VOx薄膜的电化学性能及相应的可我透射性能的和色度变化。厚100nm的TaOx薄膜即可达到对VOx薄膜的保护,避免
【作 者】
:
陈文锋
史月艳
【机 构】
:
清华大学电子工程系
【出 处】
:
真空科学与技术
【发表日期】
:
1999年1期
【关键词】
:
离子注入
抽出
离子存储
离子导体
薄膜
氧化钒
Ion intercalation/extraction
Ion storage
Ion conductor
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利用在可见光 谱具有高透射比的TaOx离 体薄膜作为保护层,研究了水与溶液发生化学反应的VOx薄膜的电化学性能及相应的可我透射性能的和色度变化。厚100nm的TaOx薄膜即可达到对VOx薄膜的保护,避免水溶液对VOx薄膜的溶蚀,同时又不影响离子对VOx薄膜的注入/抽出
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