5倍高分辨率投影光刻物镜设计

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本文结合Wafer Stepper简要说明投影光刻物镜的指标判断和要求,设计时应考虑的某些问题,并介绍一个5倍g线高分辨率投影光刻物镜的设计结果,该物镜的象素数N为2.3×10~8。 In this paper, Wafer Stepper is used to briefly describe the index judgment and requirement of projection lithography objective lens, some problems that should be considered in design, and the design result of a 5x g line high resolution projection lithography lens. The objective lens has N Is 2.3 × 10 ~ 8.
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