弛豫铁电0.74Pb（Mg_（1/3）Nb_（2/3））O_3-0.26PbTiO_3薄膜的微结构和光学性能

来源 :红外与毫米波学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：hzq1989aa

【摘要】

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采用磁控溅射法,选用LaNi O3作为缓冲层,在硅基片上制备出了0.74Pb（Mg1/3Nb2/3）O3-0.26PbTiO3弛豫铁电薄膜.研究了沉积温度对薄膜的微结构和光学性能的影响.其中,沉积温度为500

【作者】

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田玥唐艳学周丹胡志娟王飞飞陈心满刘锋王涛谢东

【机构】

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上海师范大学光电材料与器件重点实验室,中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家重点实验室,青岛大学物理科学学院

【出处】

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红外与毫米波学报

【发表日期】

：

2012年4期

【关键词】

：

PMN-0.26PT铁电薄膜折射率消光系数 PMN-0.26PT ferroelectric thin films refractive indices

【基金项目】

：

Supported by National Natural Science Foundation of China （ 60807036, 10774154, 11074265, 10804060 ）, the ＂ Chenguang＂ Program of Shanghai Educational Development Foundation of China （2007CG57）, the S

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采用磁控溅射法,选用LaNi O3作为缓冲层,在硅基片上制备出了0.74Pb（Mg1/3Nb2/3）O3-0.26PbTiO3弛豫铁电薄膜.研究了沉积温度对薄膜的微结构和光学性能的影响.其中,沉积温度为500oC时制备的薄膜,不仅具有纯的钙钛矿结构,高度（110）择优取向、致密、无裂纹的形貌、而且具有最大的剩余极化,大小为17.2μC/cm2.使用柯西模型进行拟合反射谱,分析得到薄膜的折射率和消光系数.在波长为633 nm时,500oC沉积的薄膜的折射率大小为2.41.另外,薄膜的光学带隙在2.97～3.

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