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薄电影的 TaNx nanoscale 和 Cu/TaNx 多层的结构被 DC 反应磁控管劈啪作响在 P 类型 Si (100 ) 底层上扔。TaNx 电影的特征和 Cu/TaNx/Si 系统的热稳定性在各种各样的温度退火了被四点的探查(FPP ) 学习表抵抗测量,原子力量显微镜学(AFM ) ,扫描电子显微镜精力散光谱(SEMedition ) 。Alpha 步 IQ 剖析程序和 X 光检查衍射(XRD ) 分别地。结果证明扔的 TaNx 的表面薄电影是光滑的。与增加 N2 部分压力,,免职率和 roo