光化学气相淀积氮化硅的工艺及其应用研究——(Ⅰ)光化学气相淀积氧化硅的工艺研究

来源 :微电子学与计算机 | 被引量 : 0次 | 上传用户：ericawanghnu

【摘要】

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文章介绍制备光化学气相淀积氮化硅薄膜的原理、设备及实验结果。 The paper introduces the principle, equipment and experimental results of preparing photochemical

【作者】

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汪师俊蔡琪玉沈天慧

【机构】

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上海交通大学,上海交通大学,上海交通大学上海市 200030 高纯硅及硅烷国家重点实验室,上海市 200030 高纯硅及硅烷国家重点实验室,上海市 200030 高纯硅及硅烷国家重点实验室

【出处】

：

微电子学与计算机

【发表日期】

：

1993年02期

【关键词】

：

化学气相淀积氮化硅薄膜工艺研究生长速率反应气体硅衬底低压汞灯反应室光化学反应透过率

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文章介绍制备光化学气相淀积氮化硅薄膜的原理、设备及实验结果。 The paper introduces the principle, equipment and experimental results of preparing photochemical CVD Si3N4 thin films.

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