单层WSe2、MoSe2激子发光的压力诱导K-A交互转变

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采用机械剥离法在金刚石对顶砧中制备了单层WSe2和MoSe2样品,利用高压微区荧光光谱测量技术,在氩传压介质环境下对其激子发光行为进行了高压调控研究。其中单层WSe2的中性和负电激子演化趋势在2.43GPa处出现拐点,单层MoSe2中性激子发光在3.7GPa处发生了劈裂。结合第一性原理计算分析,确认该不连续现象的产生机制为压力诱导的导带底K-A交互转变。该结果可以扩大至整个二维层状材料体系,为发展激子器件垫定基础。
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