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通过各向异性湿法腐蚀工艺利用(110)硅片制作了8×8阵列光开关的微反射镜阵列,反射镜面为{111}面,表面粗糙度低于10nm, 垂直度好于用同样的方法在(100)硅片上制作的反射镜.
MOEMS阵列光开关的微反射镜的制作
【摘 要】
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通过各向异性湿法腐蚀工艺利用(110)硅片制作了8×8阵列光开关的微反射镜阵列,反射镜面为{111}面,表面粗糙度低于10nm, 垂直度好于用同样的方法在(100)硅片上制作的反射镜.
【机 构】
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吉林大学电子科学与工程学院集成光电子学国家重点联合实验室,中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
【出 处】
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高技术通讯
【发表日期】
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2004年期
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