【摘 要】
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用射频磁控反射溅方法,在高纯N2,Ar的气氛中,以高纯Al为靶材,成功地制备了AlN薄膜,研究了不同气体组分,不同衬底温度对薄膜结晶性的影响。
【机 构】
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中国科学院激发态物理开放研究实验室
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用射频磁控反射溅方法,在高纯N2,Ar的气氛中,以高纯Al为靶材,成功地制备了AlN薄膜,研究了不同气体组分,不同衬底温度对薄膜结晶性的影响。
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