空心阴极放电沉积氮化碳薄膜的结构和成键性质

来源 :物理实验 | 被引量 : 0次 | 上传用户：Cecil1119

【摘要】

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利用空心阴极放电等离子体源在Si(100)衬底上沉积了氮化碳薄膜. 用XRD,SEM,XPS及拉曼和红外吸收光谱对薄膜的结构、成分和化学键等进行了研究. XRD分析表明,制备的氮化碳薄膜

【作者】

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杨平冯贤平施芸城闫永辉

【机构】

：

东华大学,波多黎各大学,东华大学

【出处】

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物理实验

【发表日期】

：

2005年9期

【关键词】

：

氮化碳薄膜直流空心阴极放电 XPS 拉曼光谱红外吸收光谱 CN film DC-HCD XPS Raman spectra FTIR

【基金项目】

：

上海市科技发展基金，教育部科学技术研究项目，波多黎各大学校科研和教改项目

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利用空心阴极放电等离子体源在Si(100)衬底上沉积了氮化碳薄膜. 用XRD,SEM,XPS及拉曼和红外吸收光谱对薄膜的结构、成分和化学键等进行了研究. XRD分析表明,制备的氮化碳薄膜为非晶结构. XPS分析证实了薄膜中以C-C,sp2CN和sp3CN键为主,并得出薄膜中的氮碳比为0.71,而sp3-CN相的含量也达到了0.39. 拉曼和红外吸收光谱的结果也与XPS分析的键态结果一致.

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