微芯片铝键合点上氟沾污物成分的研究

来源 :固体电子学研究与进展 | 被引量 : 0次 | 上传用户:yanzi841213
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微芯片铝键合系统的失效是器件可靠性研究的重要课题,铝键合点上的氟沾污加速了对铝合金化表面的腐蚀,导致微芯片的失败,国外的工作多数讨论氟沾污引起失效的机理;很少给出沾污物的系列化学成份。TOF-SIMS提供了一个探测和分析微芯片键合点上沾污成份的有力武器,作者比较了两个TOF-SIMS的负离子谱,一个是经目检发现键合点上有沾污斑点的芯片,另一个是键合点无沾污的芯片。根据对TOF-SIMS特征谱线和离
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