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由于高介电常数的栅电路结构在俘获电荷机制上存在负面影响，常规的直流量测技术已经捉襟见肘了。脉冲电流-电压量测技术能够彻底解决这一难题，从而得到高介电常数栅电路结构晶体管的本征电学表现。
脉冲测量技术越过高K材料电荷捕获的壁垒
【摘 要】
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由于高介电常数的栅电路结构在俘获电荷机制上存在负面影响，常规的直流量测技术已经捉襟见肘了。脉冲电流-电压量测技术能够彻底解决这一难题，从而得到高介电常数栅电路结构晶
【机 构】
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KeithleyInstrumentsInc.,Sematech
【出 处】
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集成电路应用
【发表日期】
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2006年6期
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