一种基于π型氮化钽薄膜电阻的MEMS衰减器

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针对传统衰减器体积大、反应时间长、可靠性差等问题,提出了一种基于氮化钽薄膜电阻的MEMS衰减器.根据π型衰减网路理论计算得到各个电阻的阻值,并计算各个电阻的仿真尺寸.利用HFSS 15.0电磁波仿真软件对衰减器结构进行仿真计算并优化.通过修改磁控溅射参数制备稳定的氮化钽薄膜电阻,在此基础上制作MEMS衰减器.采用矢量网络分析仪和探针台进行衰减器射频性能测试.测试结果表明,在0.1~20 GHz频率范围内,衰减器的回波损耗大于12.4 dB,插入损耗小于2.1 dB,衰减精度小于5 dB.衰减器整体尺寸为2.2 mm×1.2 mm×1 mm.
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针对MEMS系统中硅通孔(TSV)的热可靠性,利用快速热处理技术(RTP)进行了温度影响的实验分析.通过有限元分析(FEA)方法得到不同温度热处理后TSV结构的变化趋势,利用RTP对实验样品进行了不同温度的热处理实验,使用扫描电子显微镜和光学轮廓仪表征了样品发生的变化.结果 表明,热处理后TSV中Cu柱的凸起程度与表面粗糙度均随热处理温度的升高而增加,多次重复热处理与单次热处理的结果基本相同.该项研究为TSV应用于极端环境下MEMS小型化封装提供了一种解决方案.
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