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采用南京电子器件研究所的φ76 mm GaAs的PHEMT单片技术,进行了16.5~20 GHz的PHEMT MMIC的设计与研制.其中PHEMT器件选用双平面掺杂A1GaAs/InGaAs/GaAs PHEMT异质结结构,0.5μm栅长的φ76 nm GaAs工艺制作. 在MMIC设计中,准确的器件模型是设计Ku波段单片的关键.