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从负性、正性和化学增幅三个方面阐述了光敏聚酰亚胺（ＰＳＰＩ）几十年来的研究和发展现状，并做了一定深度的讨论。
光敏聚酰亚胺合成方法及应用的最新进展
【摘 要】
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从负性、正性和化学增幅三个方面阐述了光敏聚酰亚胺（ＰＳＰＩ）几十年来的研究和发展现状，并做了一定深度的讨论。
【机 构】
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中国科学院长春应用化学研究所,中国科学院微电子中心
【出 处】
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功能高分子学报
【发表日期】
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1996年2期
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