【摘 要】
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在室温下,以硅(100)为衬底,在不同的衬底偏压(即团簇不同碰撞能量]的条件下,用荷能团簇碰撞沉积方法制备了TiN薄膜.用原子力显微镜和X射线衍射等技术对TiN薄膜的表面形貌和结
【机 构】
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中国科学院上海原子核研究所核分析技术开放实验室上海 201800华东师范大学上海 200062;中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家开放实验室兰州 730000;
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在室温下,以硅(100)为衬底,在不同的衬底偏压(即团簇不同碰撞能量]的条件下,用荷能团簇碰撞沉积方法制备了TiN薄膜.用原子力显微镜和X射线衍射等技术对TiN薄膜的表面形貌和结构进行了研究,并且在维式硬度计和SRV微动摩擦磨损试验机上对其摩擦学性能进行了考察.结果表明,在低的偏压情况下,团簇比较松散地堆积在衬底上;而在高偏压时团簇和衬底碰撞破碎,形成附着力强、致密性好及表面非常光滑的薄膜;在一定的偏压范围内,TiN薄膜是(220)择优取向,TiN薄膜具有较高的硬度、较低的摩擦系数和较好的耐磨损性能.
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