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根据国内外研究和发展现状，对有望突破100nm超精细图案光刻分辨率的一些关键技术进行了阐述，其中包括曝光技术、掩模技术、光学系统改进和以离轴照明、相位移掩模、多重滤光和图形演算为代表的分辨率增强技术等。
超精细图案光刻技术的研究与发展
【摘 要】
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根据国内外研究和发展现状，对有望突破100nm超精细图案光刻分辨率的一些关键技术进行了阐述，其中包括曝光技术、掩模技术、光学系统改进和以离轴照明、相位移掩模、多重滤光和
【机 构】
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上海交通大学微纳米研究院,兰州大学物理科学与技术学院
【出 处】
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微细加工技术
【发表日期】
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2002年4期
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