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介绍一种新型等离子体辅助镀膜技术，使用该技术可使高质量的光学镀膜大量生产。该技术核心是无栅等离子体源（ＧＩＳ）。ＧＩＳ可以产生大面积的均匀等离子体。直径大于１０００ｍｍ。等离子体离子流强度高达０．５ｍＡ／ｃｍ＾２，离子流能量２０－２００ｅＶ，并能激活反应气体Ｏ２及蒸发原子，用ＧＩＳ进行的等离子体离子辅助镀膜这一技术，现正用于生产高质量的光学薄膜。