【摘 要】
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采用MPCVD技术,研究了CO2-CH4-N2体系中N2对纳米金刚石膜生长状态及晶界处H含量的影响。利用SEM,XRD,Raman,FTIR及TEM对纳米金刚石膜的形貌、结构和质量进行研究,并利用Raman
【机 构】
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武汉工程大学等离子体化学与新材料湖北省重点试验室
【基金项目】
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湖北省教育厅科学技术研究计划优秀中青年人才项目(Q20151517),武汉工程大学科学研究基金(K201506)
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采用MPCVD技术,研究了CO2-CH4-N2体系中N2对纳米金刚石膜生长状态及晶界处H含量的影响。利用SEM,XRD,Raman,FTIR及TEM对纳米金刚石膜的形貌、结构和质量进行研究,并利用Raman及FTIR对晶界处H的含量进行计算分析。结果表明,N2流量的增加会在促使纳米金刚石膜的晶粒团聚体从球状逐渐转变为针状的同时减小晶粒尺寸,并使择优取向由<111>转变为<110>。随着N2流量的增加,纳米金刚石膜的质量也随之降低,但晶界处的H含量逐渐上升。具有针状晶粒团聚体的纳米金
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