【摘 要】
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采用电刷镀技术在FTO导电玻璃上制备ZnS薄膜,通过XRD（X射线衍射）、UV-VIS-NIR（紫外近红外光谱仪）等技术对所制备的ZnS晶体的结构、形貌、组成和光学性质进行了表征.用同样的方法
【机 构】
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郑州工业应用技术学院,河南大学物理与电子学院
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采用电刷镀技术在FTO导电玻璃上制备ZnS薄膜,通过XRD（X射线衍射）、UV-VIS-NIR（紫外近红外光谱仪）等技术对所制备的ZnS晶体的结构、形貌、组成和光学性质进行了表征.用同样的方法制备并表征了SnS薄膜,在实验中通过对电解液的浓度、pH、电压、刷镀时间、干燥时间等不断进行改变和对比,用得到的最优条件能制备出均匀致密的薄膜.用XRD检测物相,用SEM观察其表面形貌,用紫外可见分光光度计测量了SnS薄膜的光吸收性能,估算了其间接带隙值.测量了SnS薄膜的光电性质,表明其具有较明显的光响应.
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