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采用磁控共溅法制备Fe-Mn-Si磁性形状记忆合金薄膜,并将制备薄膜在不同的温度下进行真空热处理,比较了不同热处理温度下薄膜的组织形貌。结果表明,制备薄膜组织成分均匀,热处理前主要为γ(fcc)相,经400℃真空热处理2h后,薄膜含有γ(fcc)和ε(hcp)相。随着热处理温度升高,溅射薄膜颗粒增大,表面粗糙度增加。