6H—SiC(0001)衬底结构对GaN膜结构的影响第一原理研究

来源 :河南师范大学学报(自然科学版) | 被引量 : 0次 | 上传用户:xjy_1666
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用从头计算方法总能理论研究了6H—SiC(0001)(√3×√3)R30°衬底上生长的GaN薄膜的界面结构特性.计算结果表明:GaN膜为Ga极性的纤锌矿结构;6H—SiC(0001)衬底表面台阶引起的GaN岛合并在薄膜中产生边界堆垛失配(SMBs),而这种SMBs缺陷随着薄膜生长厚度的增加可以消除.
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