【摘 要】
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在微电子封装中,多处要使用FeCl3溶液进行蚀刻,如PCB布线,细间距引线框架等.在实际湿法蚀刻的研究中,发现使用高玻美度的FeCl3溶液蚀刻效果好.而高玻美度溶液的低温结晶现象
【机 构】
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清华大学材料系电子材料与封装实验室
【基金项目】
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国家自然科学基金资助项目(69836030)
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在微电子封装中,多处要使用FeCl3溶液进行蚀刻,如PCB布线,细间距引线框架等.在实际湿法蚀刻的研究中,发现使用高玻美度的FeCl3溶液蚀刻效果好.而高玻美度溶液的低温结晶现象比低玻美度(40°Be)要明显得多,对科学研究和生产带来较大的不利.本文分析研究了FeCl3蚀刻液失效产物和产生机制,提出了失效的温度因素、杂质离子因素、时间因素的影响过程和再恢复的方法.
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