【摘 要】
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据《Semiconductor World》1992年第9期(第11卷第11号)报道,日本三菱电机LSI研究所在第5届MPC(Micro Process Conference)上发表了开发变形照明与移相掩模结合的新光刻技术,
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据《Semiconductor World》1992年第9期(第11卷第11号)报道,日本三菱电机LSI研究所在第5届MPC(Micro Process Conference)上发表了开发变形照明与移相掩模结合的新光刻技术,进一步改善焦深和对比度。0.35μm的图形获得普通光刻法的2倍焦深。
According to “Semiconductor World”, 1992, No. 9 (Volume 11, No. 11), Mitsubishi Electric LSI Research Institute announced the development of a new combination of the modified illumination and the phase-shift mask at the 5th MPC (Micro Process Conference) Lithography technology to further improve the depth of focus and contrast. The 0.35 μm pattern obtained 2x the depth of focus of normal photolithography.
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一、“剔红”的价值 马未都先生在《百家讲坛》讲《动刀的漆器》时,讲到了一种叫“剔红”的漆器,说这种漆器很昂贵,有一件在国际市场上卖出了1287万元人民币的价格。这“剔红”是如何“剔”出来的呢?在物件上一遍又一遍地刷上红漆,当出现很厚的漆膜,而这漆膜又处于半干状态,即既不沾刀又不脆的时候,开始动刀轻轻“剔”出所需的纹样。由此看来“剔”比“雕”比“刻”的技术含量高很多。 二、“剔红”的启示 从“
他,与新中国海军一同成长。从修复破旧的沉舰,到仿制苏联舰艇;从自力更生设计火炮战舰,到奋起直追研制现代化海上“利刃”;从单舰的系统集成,到区域海上联合作战体系,人民海
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