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为制作与分布式的反馈激光(EML ) 综合的电镀物品吸收调节的人的一个新方法被建议。与方法，我们制作了选择区域生长两倍栈活跃的层 EML (SAG-DSAL-EML ) 。通过与 EML 的另外的制造方法作比较，人物和在这篇论文介绍的新方法的优点被讨论。
A selective area growth double stack active layer electroabsorption modulator integrated with a dist
【摘 要】
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为制作与分布式的反馈激光(EML ) 综合的电镀物品吸收调节的人的一个新方法被建议。与方法，我们制作了选择区域生长两倍栈活跃的层 EML (SAG-DSAL-EML ) 。通过与 EML 的另外
【机 构】
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KeyLaboratoryofSemiconductorMaterials
【出 处】
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中国科学通报：英文版
【发表日期】
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2009年20期
【基金项目】
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Supported by the National High-Tech Research and Development Program ot China （Grant Nos. 2001AA312050, 2005AA31g060 and 2007AA-03Z417）
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