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期刊论文
铜表面硫化膜形成及其电接触特性
铜表面硫化膜形成及其电接触特性
来源 :电子工艺技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:zbgqx123456
【摘 要】
:
用库仑分析法测定了在湿热含H2S气氛中铜表面腐蚀膜层的厚度及其随腐蚀时间的变化,对不同H2S浓度的膜层变化曲线存在的差异进行了探讨.俄歇能谱分析表明库仑分析法测定铜的硫
【作 者】
:
杨光
章继高
鲍春燕
【机 构】
:
北京邮电大学,100876太钢设计院,太原,030009;
【出 处】
:
电子工艺技术
【发表日期】
:
1999年3期
【关键词】
:
铜腐蚀膜
库仑分析法
电接触
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用库仑分析法测定了在湿热含H2S气氛中铜表面腐蚀膜层的厚度及其随腐蚀时间的变化,对不同H2S浓度的膜层变化曲线存在的差异进行了探讨.俄歇能谱分析表明库仑分析法测定铜的硫化腐蚀膜厚度是可靠的.分析了膜层厚度变化对电接触性能的影响及其异常现象.
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