【摘 要】
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利用新型的阳离子聚合物膜将四硫富瓦烯修饰到电极表面上，并研究了修饰电极的电化学行为。研究了浸泡时间、扫描速度和支持电解质对修饰电极性能的影响；循环伏安法、计时电流法
【机 构】
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中国科学院长春应用化学研究所电分析化学开放研究实验室!长春130022,中国科学院长春应用化学研究所电分析化学开放研究实验室!长春130022
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利用新型的阳离子聚合物膜将四硫富瓦烯修饰到电极表面上，并研究了修饰电极的电化学行为。研究了浸泡时间、扫描速度和支持电解质对修饰电极性能的影响；循环伏安法、计时电流法和交流阻抗法表明四硫富瓦烯在膜中的扩散是控制步骤。四硫富瓦烯在膜中的第一对氧化还原峰呈现可逆的、单电子反应。用循环伏安法测得了ＴＴＦ＋ＴＴＦＺＴＴＦ反应的平衡常数。
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