搜索筛选:
搜索耗时1.1762秒,为你在为你在102,285,761篇论文里面共找到 82 篇相符的论文内容
发布年度:
[期刊论文] 作者:王弘,储向峰,
来源:中国科学技术大学学报 年份:1995
本文论述了凹凸棒石吸附剂对Fe2O3系陶瓷湿敏性能的影响。研究结果表明:用5%-8%的ATI替代Fe2O3-Al2O3-K2O系中Al2O3制得的湿敏陶瓷具有优良的敏感特性的稳定性。材料稳定原因是由于在主晶相表面上形成有多孔结构......
[期刊论文] 作者:蒋东丽,储向峰,,
来源:稀有金属材料与工程 年份:2009
以La2O3和FeCl3·6H2O为主要原料,利用盐介质固相反应法制备了LaFeO3纳米晶。用XRD、TEM分别对不同反应温度下的产品进行了物相和形貌表征,并研究了其对三乙胺、乙醇、汽油...
[期刊论文] 作者:储向峰,刘杏芹,
来源:化学物理学报 年份:1999
用化学共沉淀法制备出纳米CdIn2O4超微粉,研究了制备条件对材料相结构的影响.对其电导研究表明,纳米CdIn2O4的导电性受气氛影响很大,在空气中受表面吸附氧的数量和状态的影响,呈n......
[期刊论文] 作者:汪玖林,储向峰,,
来源:安徽工业大学学报(自然科学版) 年份:2017
作为一种重要的半导体气敏材料,Zn2SnO4气敏传感器被广泛用于检测有毒、有害、易燃和易爆等气体。本文综述了Zn2SnO4气敏材料的制备、气敏机理以及通过改变形貌和掺杂来提升...
[期刊论文] 作者:储向峰,刘杏芹,
来源:应用化学 年份:1998
用化学共沉淀法在ZnFe2O4中掺入In2O3.X射线衍射分析证实,In2O3与ZnFe2O3之间没有新相生成,晶格常数有微小变化。掺入In2O3降低了ZnFe2O4的电导,改变了该系列材料的导电机制,提高了材料对乙醇的敏感性和选择性,而且缩短了......
[期刊论文] 作者:储向峰,刘杏芹,
来源:应用化学 年份:1998
Fe2O3┐TiO2┐K2O复合氧化物体系结构与湿敏性能储向峰刘杏芹*王弘(中国科学技术大学材料科学与工程系合肥230026)关键词Fe2O3-TiO2-K2O,复合氧化物,湿度传感器1997-04-30收稿,1997-09-29修回Fe2O3是一种.........
[期刊论文] 作者:高翠苹,储向峰,
来源:化学研究 年份:2018
开发出环保、节能、高效的能源一直是各国的不懈追求.尖晶石型含镓复合材料化学稳定性较好,可作为催化材料和基质材料用于很多方面,这些材料由于具有很多优异的性能而备受研...
[期刊论文] 作者:顾康康,储向峰,
来源:中国化工贸易 年份:2018
化学机械抛光是在制造半导体芯片和电子器件的表面处理过程中应用最广泛的技术.本文通过改变抛光液的pH值、磨料浓度、络合剂浓度等条件研究镁合金的化学机械抛光效果.结果表...
[会议论文] 作者:储向峰,刘杏芹,
来源:第十届全国高技术陶瓷学术年会 年份:1998
该论文研究了SmInO对CdInO电导和气敏性能的影响。研究发现了SmlnO能明显提高CdInO传感器电阻和灵敏度,材料电阻和灵敏度随SmInO量增加而提高。XPS分析表明灵敏度的提高可以归...
[期刊论文] 作者:储向峰,白林山,李玉琢,,
来源:微纳电子技术 年份:2009
电化学机械抛光(ECMP)技术可以在低压力下进行,有可能替代化学机械抛光(CMP)技术,满足含易碎、低介电常数材料的小尺寸特征结构的ULSI中Cu的抛光要求。利用自制的抛光液和改装的抛......
[期刊论文] 作者:袁国赞,孙文起,储向峰,,
来源:新乡学院学报(自然科学版) 年份:2013
为了适应应用型本科人才培养的需要,改革传统的"理论有机化学"课程教学模式,构建并实施了四结合的多元化教学模式.实践结果表明,采用四结合的多元化教学模式,可以切实培养学生......
[期刊论文] 作者:储向峰,刘杏芹,王弘,
来源:应用化学 年份:1998
Fe2O3┐TiO2┐K2O复合氧化物体系结构与湿敏性能储向峰刘杏芹*王弘(中国科学技术大学材料科学与工程系合肥230026)关键词Fe2O3-TiO2-K2O,复合氧化物,湿度传感器1997-04-30收稿,1997-09-29修回Fe2O3是一种.........
[期刊论文] 作者:王金普,白林山,储向峰,,
来源:金刚石与磨料磨具工程 年份:2016
以纳米氧化铝为磨料对A向蓝宝石进行化学机械抛光,实验中考察了磨料浓度、磨料粒径、抛光时间、抛光压力以及NH4F浓度等因素对A向蓝宝石的材料去除速率和表面粗糙度的影响。...
[期刊论文] 作者:王金普,白林山,储向峰,,
来源:人工晶体学报 年份:2015
利用自制的抛光液对硬盘微晶玻璃基板进行化学机械抛光。研究了抛光压力、SiO2浓度、pH和氧化剂过硫酸铵浓度等因素对材料去除速率MRR和表面粗糙度Ra的影响,系统分析了微晶玻...
[期刊论文] 作者:白林山,王金普,储向峰,,
来源:润滑与密封 年份:2017
利用自制抛光液对微晶玻璃进行化学机械抛光,研究络合剂、氧化剂、润滑剂种类及添加量对微晶玻璃化学机械抛光材料去除速率和表面粗糙度的影响。结果表明:抛光液中加入质量分......
[期刊论文] 作者:白林山,王金普,储向峰,,
来源:金刚石与磨料磨具工程 年份:2017
以纳米CeO_2为磨料自制抛光液,研究磨料质量分数、pH值、抛光液流量、抛光盘转速、表面活性剂种类和氟化铵质量分数等因素对微晶玻璃化学机械抛光的影响,分析总结CeO_2在微晶...
[期刊论文] 作者:陈同云,储向峰,胡克良,
来源:化学物理学报 年份:2009
低温陈化超声波共沉淀法制得SO4^2-/ZrO2-La2O3前驱体,经H2SO4处理,在不同温度下焙烧得到纳米晶催化剂SO4^2-/ZrO2-La2O3;用Hammett指示剂法测定其酸性.用XRD、BET、TEM、IR和XPS...
[期刊论文] 作者:梁士明,储向峰,张千峰,,
来源:安徽工业大学学报(自然科学版) 年份:2010
以PEG-400为分散剂制得WO3纳米粉体,用粉末X-射线衍射仪(XRD)和透射电镜(TEM)对产物的物相和形貌进行了表征。结果显示:产物为球形颗粒,600℃下热处理2h颗粒平均粒径为80nm。将粉...
[期刊论文] 作者:储向峰,白林山,陈同云,,
来源:稀有金属材料与工程 年份:2011
利用自制的抛光液和改造的抛光机对NiP基板进行电化学机械抛光,研究了抛光电压、抛光台转速、抛光压力和抛光液流速对材料去除速率的影响,对电化学机械抛光的机理做了初步的...
[期刊论文] 作者:王金普,白林山,储向峰,,
来源:纳米技术与精密工程 年份:2015
为了提高微晶玻璃化学机械抛光(CMP)的材料去除速率(MRR),降低其表面粗糙度,利用自制的抛光液对微晶玻璃进行化学机械抛光,研究了4种含不同磨料( SiO2、Al2 O3、Fe2 O3、CeO2)的抛光液......
相关搜索: