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[期刊论文] 作者：冯毓材,
来源：电工电能新技术 年份：1984
科罗拉多州立大学在宽束离子源研究方面处于美国前列.它有两个研究小组在做这方面的工作.一个在机械系,由P·J·威尔伯教授领导,主要从事空间推进用离子源研究,同时也进行部...
[期刊论文] 作者：冯毓材,
来源：核聚变与等离子体物理 年份：1986
本文提出了会切磁场多极离子源中,磁场对等离子体参数以及可引出离子束流和放电室阳极收集的离子电流影响的实验研究结果,并对该结果进行了分析讨论。In this paper, we pr...
[期刊论文] 作者：冯毓材,江建国,
来源：第十一届全国薄膜学术交流会 年份：2001
介绍一种无栅霍尔离子束辅助镀膜系统.并对该系统的特点、性能和应用结果作了叙述....
[期刊论文] 作者：冯毓材,江建国,,
来源：城市道桥与防洪 年份：2001
该文从挂篮荷载计算、施工流程、支座及临时固结施工、挂篮安装及试验、合拢段施工、模板制作安装、钢筋安装、混凝土的浇筑及养生、测量监控等方面人手,介绍了S226海滨大桥...
[期刊论文] 作者：冯毓材,李哓谦,
来源：电工电能新技术 年份：1997
本文介绍一种新型的光学薄膜制备用多离子束电子束系统。...
[期刊论文] 作者：冯毓材,李晓谦,
来源：真空科学与技术 年份：1996
介绍了一种新型的电子束蒸发（ＥＢＥ）强流气、固两用离子源，其基本原理是将电子呸蒸发技术引入离子源放电室内，使的蒸发和游离一同一放电室内完成，该源不仅能引出包括各种难熔材料在内的......
[会议论文] 作者：冯毓材,李晓谦,
来源：’94秋季中国材料研讨会 年份：1994
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[会议论文] 作者：冯毓材;尤大纬;,
来源：迈向21世纪的电工科技学术会议 年份：1996
文中介绍了一种新型的电子束蒸发强流气固两用离子源（ＥＢＥ）。该源的基本原理是将电子束蒸发技术引入离子源放电室内，使材料的蒸发和游离在同一放电室内完成。该源不仅能引出包括各种......
[会议论文] 作者：冯毓材,李晓谦,
来源：’94秋季中国材料研讨会 年份：1994
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[会议论文] 作者：尤大纬,冯毓材,
来源：’94秋季中国材料研讨会 年份：1994
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[期刊论文] 作者：冯毓材,冯隽,刘强,
来源：2006光学、激光、红外技术学术交流会 年份：2006
文章介绍了新型K系列多会切场强流宽束离子源(MCLB-8,16,18).由于采用新型多会切磁场和优化的引出系统,该系列源在薄膜辅助沉积的能量(200～1000eV)范围内,具有良好的低能特性...
[期刊论文] 作者：冯毓材,于梦蛟,冯隽,
来源：光学仪器 年份：2004
介绍了一个新型16厘米束径多会切磁场低能强流宽束离子源(MCLB-16).由于采用新型多会切磁场和优化的低能引出系统,所以该源在薄膜辅助沉积的能量(200eV～800eV)范围内,具有较好...
[会议论文] 作者：孙义林,冯毓材,杨松涛,
来源：中国电工技术学会第四届电子束离子束学术年会第二届电子束焊接学术年会 年份：1991
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[期刊论文] 作者：尤大纬,冯毓材,王宇,
来源：微细加工技术 年份：1996
本文叙述了对材料表面改性的宽束离子源的要求，重点介绍了考夫曼型气体离子源及电子束蒸发强流金属离子源，也介绍了ＲＦ、ＥＣＲ离子源及ＭＥＶＶＡ源。This paper describes the requirements of......
[期刊论文] 作者：冯毓材,杨松涛,尤大伟,沈国卿,
来源：真空科学与技术 年份：1987
本文介绍一种考夫曼型高能宽束强流离子源,它的最高引出电压可达100kV,最大引出束流25mA。可使用氩、氮、氢、氧及一氧化碳等多种气态物质作为工质。在使用氩、氮等非腐蚀性...
[期刊论文] 作者：冯毓材,李哓谦,尢大纬,况元珠,王宇,
来源：电工电能新技术 年份：1997
本文介绍一种新型的光学薄膜制备用多离子束电子束系统。该系统既可采用聚焦离子束溅射沉积，也可采用传统的电子束蒸发沉积薄膜，并辅助以低能离子轰击，离子可以是惰性元素也可以......
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