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[学位论文] 作者：冯钊永,
来源：天津大学 年份：2001
该论文采用双槽法制备了Cu/Co纳米多层膜,考察了工艺条件对电沉积过程的影响.论文还采用单槽法制备了Cu/Co纳米多层膜,考察了电沉积条件对电镀过程的影响,确定了最佳工艺条件...
[期刊论文] 作者：迟广俊,冯钊永,等,
来源：物理化学学报 年份：2003
分别采用单槽法和双槽法电沉积Cu/Co多层膜。研究了两种电沉积方法制备多层膜的工艺条件，利用电化学方法、XRD和SEM对多层膜进行特征，并对Cu/Co多层膜的巨磁阻性能进行了测试。...
[期刊论文] 作者：迟广俊,冯钊永,赵瑾,姚素薇,
来源：物理化学学报 年份：2003
分别采用单槽法和双槽法电沉积Cu/Co多层膜.研究了两种电沉积方法制备多层膜的工艺条件,利用电化学方法、XRD和SEM对多层膜进行表征,并对Cu/Co多层膜的巨磁阻性能进行了测试....
[会议论文] 作者：迟广俊,冯钊永,赵瑾,姚素薇,
来源：天津市电镀工程学会第九届学术年会 年份：2002
分别采用单槽法和双槽法电沉积Cu/Co多层膜.研究了两种电沉积方法制备多层膜的工艺条件,并利用电化学方法、XRD和SEM对多层 膜进行表征.通过对此,分析了单槽法和双槽法制备多...
[会议论文] 作者：迟广俊,冯钊永,赵瑾,姚素薇,
来源：第七届全国电镀与精饰学术年会 年份：2002
分别采用单槽法和双槽法电沉积Cu/Co多层膜.研究了两种电沉积方法制备多层膜的工艺条件,并利用电化学方法、XRD和SEM对多层膜进行表征.通过对比分析了单槽法和双槽法制备多层...
[期刊论文] 作者：姚素薇,桂枫,张卫国,冯钊永,窦升鹏,
来源：天津大学学报 年份：2001
分别采用单槽法和双槽法电沉积制备Cu／Ni多层膜．研究了两种电沉积方法制备多层膜的工艺条件，并利用俄歇电子能谱和扫描电子显微镜(SEM)确定镀层结构．通过对比，分析了单槽法和双槽......
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