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[学位论文] 作者:孙聂枫,, 来源: 年份:2004
InP以其众多的优越特性使之在许多高技术领域有广泛应用。掺硫N型InP材料用于激光器、发光二极管、光放大器、光纤通信等光电领域。半绝缘(SI) InP主要用于微电子器件和光电...
[学位论文] 作者:孙聂枫,, 来源: 年份:2008
磷化铟(InP)已成为光电器件和微电子器件不可或缺的重要半导体材料。本文详细研究了快速大容量合成高纯及各种熔体配比条件的InP材料;大直径InP单晶生长;与熔体配比相关的缺...
[期刊论文] 作者:孙聂枫,陈旭东, 来源:半导体情报 年份:1999
原位磷注合成LEC晶体生长法可分别合成得到富铟、近化学配比或富磷的InP熔体,并进行LEC晶体生长,我们对不同配比程度的材料进行了FT-IR、PL、变温Hall等测试工作,得到了一些相当有意义的结果,对研究非......
[期刊论文] 作者:孙聂枫,陈旭东, 来源:半导体情报 年份:1998
回顾了磷化铟(InP)晶体材料的发展过程,介绍了磷化铟材料的多种用途和优越特性,展望了磷化铟材料在我国的发展前景。...
[会议论文] 作者:陈旭东;孙聂枫;, 来源:全国化合物半导体、微波器件和光电器件学术会议 年份:1998
该文采用原位磷注入合成法在高压单晶炉内分别合成了富铟、近化学配比、富磷的InP熔体,利用液封直拉法(LEC)分别从不同化学计量比条件下的IsP熔体中生长InP单晶材料。对材料进行......
[会议论文] 作者:孙聂枫,陈旭东, 来源:全国化合物半导体、微波器件和光电器件学术会议 年份:1998
随着应用领域的不断扩大,对材料的质量提出了越来越高的要求,为了提高利用效率和适应大规模集成电路的要求,对晶片的尺寸也提出了越来越大的要求,为此该课题组从“八五”末开始进......
[期刊论文] 作者:Nakam.,S,孙聂枫, 来源:半导体情报 年份:1996
制造出了发光强度为12cd的超高亮度InGaN单量子阱结构绿光发光二极管。这些InGaNSQAW绿光LED的发光强度大约比常规的GaP绿光LED(0.1cd)高100倍。......
[期刊论文] 作者:Shuji Nakamura,孙聂枫,, 来源:半导体情报 年份:1996
制造出了发光强度为12cd 的超高亮度 InGaN 单量子阱(SQW)结构绿光发光二极管(LED)。这些 InGaN SQW 绿光 LED(12cd)的发光强度大约比常规的 GaP 绿光 LED(0.1cd)高100倍。在...
[期刊论文] 作者:毛卫东,孙聂枫, 来源:武汉大学学报:自然科学版 年份:2000
在10-300K的温度范围内,测量了用液封直拉法(LEC)生长的n-InP经高温退火后形成的未掺杂SI-InP晶体的正电子寿命谱,用PATFIT和MELT两种技术分析了正电子寿命谱。常温下的结果表明,SI-InP中存在甸空位VIn或与杂质的复合体缺陷......
[期刊论文] 作者:孙聂枫,吴霞宛, 来源:功能材料与器件学报 年份:2000
在未掺杂和掺Fe的LEC-In中用FT-IR测试到VInH4的存在。已经证实该缺陷在LEC-InP中普遍存在。经研究表明在掺Fe的InP中的VInH4浓度比在未掺杂中的高。而在同一晶锭中其浓度分布是头部高,尾部低。讨论了其对未掺杂InP的......
[期刊论文] 作者:赵有文,孙聂枫,等, 来源:半导体学报 年份:2002
用辉光放电质谱(GDMS)测量了原生液封直接(LEC)磷化铟(InP)的杂质含量。利用霍尔效应测到的非掺LEC-InP的自由电子浓度明显高于净施主杂质的浓度。在非掺和掺铁InP中都可以用红外吸......
[期刊论文] 作者:赵有文,孙聂枫,等, 来源:半导体学报 年份:2002
对液封直拉(LEC)非掺磷化铟(InP)进行930℃80h的退火可重复制备直径为50和75mm的半绝缘(SI)衬底。退火是在密封的石英管内纯磷(PP)或磷化铁(IP)两种气氛下进行的。测试结果表明IP-SI In......
[期刊论文] 作者:孙聂枫,赵有文,孙同年,, 来源:微纳电子技术 年份:2008
综述了近年来关于InP中深能级缺陷和杂质的研究工作。讨论了深能级杂质及缺陷对InP材料性能的重要影响;介绍了深能级瞬态谱(DLTS)、光致发光谱(PL)、热激电流谱(TSC)、正电子...
[期刊论文] 作者:孙聂枫,赵有文,孙同年,, 来源:微纳电子技术 年份:2008
[期刊论文] 作者:齐志华,李昌青,孙聂枫,, 来源:中国电子科学研究院学报 年份:2007
采用原位磷注入合成法在高压单晶炉内分别合成了富铟、近化学配比、富磷的InP熔体,利用液封直拉法(LEC)分别从不同化学计量比条件下的InP熔体中生长InP单晶材料。对材料分别进...
[期刊论文] 作者:梁仁和,金艳,周世增,孙聂枫,, 来源:微纳电子技术 年份:2014
基于磷蒸气注入原位合成技术及液封直拉磷化铟(InP)单晶的原理,设计了CZ-50型InP单晶炉。介绍了该单晶炉的主体结构,特别是原位合成装置的结构。该装置不仅可以实现磷蒸气注...
[会议论文] 作者:孙聂枫,杨光耀,曹立新,吴霞宛, 来源:全国化合物半导体.微波器件和光电器件学术会议 年份:2000
在未掺杂和掺Fe的LEC-In中用FT-IR测试至VH的存在。已经证实该缺陷在LEC-InP中普遍存在。经研究表明在掺Fe的InP中的VH浓度比在未掺杂中的高。而在 同一晶锭中其浓度分布是头...
[期刊论文] 作者:李玉茹,李晓岚,孙同年,孙聂枫,, 来源:半导体技术 年份:2015
在LEC-In P晶体生长过程中,孪晶的产生是一个影响In P单晶率的突出问题。生长高质量、大直径的单晶是当前In P晶体生长的发展方向,减少孪晶一直是In P单晶生长技术的研究重点...
[会议论文] 作者:孙聂枫,杨光耀,吴霞宛,曹立新, 来源:全国化合物半导体.微波器件和光电器件学术会议 年份:2000
在未掺杂和掺Fe的LEC-In中用FT-IR测试至VH的存在。已经证实该缺陷在LEC-InP中普遍存在。经研究表明在掺Fe的InP中的VH浓度比在未掺杂中的高。而在 同一晶锭中其浓度分布是头部高,尾部低。讨论了其对未掺杂InP的电子特性和掺Fe的InP的补偿的影响,及其对InP热稳定......
[期刊论文] 作者:孙聂枫,周晓龙,陈秉克,孙同年, 来源:电子工业专用设备 年份:2005
介绍了制备InP单晶材料的主要方法,包括传统液封直拉技术(LEC)、改进的LEC技术、气压控制直拉技术(VCZ0PC-LEC)0垂直梯度凝固技术(VGF)0垂直布里奇曼技术(VB)等。对这些方法...
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