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[期刊论文] 作者：武丰煜,
来源：电工电能新技术 年份：1995
电子束曝光系统中采用了多项校正技术，才得以使之渐致完善，成为微细加工领域中一种非常重要的工艺设备。本文根要地介绍了这些校正技术的原理、适用范围以及校正方法的要点。......
[期刊论文] 作者：武丰煜,
来源：电工电能新技术 年份：1986
在扫描电子束曝光机中,半导体型背散射电子检测装置是最重要最常用的一种检测仪器。由中国科学院电工研究所和北京261厂合作研制的该型装置,经过五年多的研制、试验和各种具...
[期刊论文] 作者：武丰煜,张福安,
来源：电工电能新技术 年份：1989
在电子束曝光系统中,背散射电子检测器是重要部件之一。本文简要地介绍了该装置的工作原理、功能及检测系统概况,并给出了多种应用举例。...
[会议论文] 作者：张福安,武丰煜,
来源：第九届全国电子束.离子束.光子束学术年会 年份：1997
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[会议论文] 作者：张福安,武丰煜,
来源：中国电工技术学会计算机应用专业委员会学术年会 年份：1986
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[期刊论文] 作者：武丰煜,唐文剑,
来源：电工电能新技术 年份：1995
本文概要地比较了扫描电镜和电子束曝光机二者电子光学柱的异同。介绍了把一台ＡＭＲＡＹ系列电镜的电子光柱改造成ＤＹ－５型电子束暴光机电子光学柱所做的工作，最后给 一组试验结果。......
[期刊论文] 作者：武丰煜,唐文剑,
来源：电工电能新技术 年份：1994
在电子束曝光机中，工件传动台、电磁偏转场及标记三者相对应的座标轴是否重合，是影响图形拼接精度的重要因素之一。本文概要地介绍了调校三座标系相互重合的方法，并给出了ＤＹ－５型亚微......
[期刊论文] 作者：唐文剑,武丰煜,
来源：电工电能新技术 年份：1996
本文将重点介绍ＤＹ－５型电子束暴光机的偏转系统的构成、特点及结果。...
[期刊论文] 作者：武丰煜,顾文琪,
来源：微细加工技术 年份：1996
本文介绍了ＤＹ－５型微米电子束曝光机的主要技术性能；最细特征线宽０．４μｍ，图形位置精度及拼接精度优于±０．１５μｍ；扫描场尺寸１×１ｍｍ＾２和２×２ｍｍ＾２；最高扫描速度１ＭＨｚ，可加工１００×１００ｍｍ＾２掩模版或Х７５硅圆片，给出了......
[会议论文] 作者：彭开武,武丰煜,
来源：第十一届全国电子束、离子束、光子束学术年会 年份：2001
简要介绍在将一台透射电镜改建为缩小投影电子束曝光原理论证机时的工件台方案选择....
[期刊论文] 作者：武丰煜,唐文剑,张福安,
来源：电工电能新技术 年份：1994
在电子束曝光机中，工件传动台、电磁偏转场及标记三者相对应的座标轴是否重合，是影响图形拼接精度的重要因素之一。本文概要地介绍了调校三座标系相互重合的方法，并给出了ＤＹ－５型亚微......
[期刊论文] 作者：唐文剑,武丰煜,唐辉,陈建平,
来源：电工电能新技术 年份：1996
本文将重点介绍ＤＹ－５型电子束曝光机的偏转系统的构成、特点及结果。This article will focus on DY-5 electron beam exposure machine deflection system of the composition,...
[期刊论文] 作者：武丰煜,唐文剑,张福安,安秉谦,
来源：电工电能新技术 年份：1995
本文概要地比较了扫描电镜和电子束曝光机二者电子光学柱的异同。介绍了把一台ＡＭＲＡＹ系列电镜的电子光柱改造成ＤＹ－５型电子束曝光机电子光学柱所做的工作。最后给出了一组试验结果。Th......
[期刊论文] 作者：范惠君,李献云,武丰煜,张福安,
来源：核电子学与探测技术 年份：1986
本文简要介绍了灵敏面直径分别为20,12mm,中心孔为4mm的环形探测器的制造工艺和基本性能。并给出了扫描电子显微镜和扫描电子束爆光机中,采用环形探测器检测背散射电子的实验...
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