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[期刊论文] 作者：石生亮,
来源：真空技术报导 年份：2004
B—A规所测量的是低压强,受到离子收集极上与压强无关的本底电流(ir)所限制。这种本底电流,根据下述两种原因,由离子收集极的光发射而产生,(a)电子轰击栅级引起的软X射线,(b)...
[期刊论文] 作者：石生亮,
来源：微细加工技术 年份：1989
ZL1型水平真空炉是机械电子工业部第48研究所最近研制的新型真空炉,是仿美国西屋公司“马牌”—WorkhorseⅠ型真空炉产品。它具有工作真空度高,微机程序控温,真空系统自动化...
[期刊论文] 作者：石生亮,
来源：微细加工技术 年份：1986
分子束外延技术(简称MBE)是随着超高真空、表面分析和薄膜生长技术的发展而逐渐成熟的一种新工艺。1968年美国贝尔实验室A.Y.Cho等人为制作深度方向掺杂元素精确控制的超薄...
[期刊论文] 作者：K.F.Poulter,石生亮,
来源：真空 年份：1979
本评论包括那些被应用于真空。校准的各种不同技术，涉及到两种校准方法：一是与绝对规作比较，一是依靠产生已知低压强的基准进行校准。对连续膨胀法和小孔泻流法两者中的系统不确......
[期刊论文] 作者：方伟林,石生亮,
来源：微细加工技术 年份：1992
一台填补国内空白的新型发光二极管自动封装机最近由机械电子工业部第四十八研究所研制成功。该机具有喷吹、一次注胶、二次注胶、人工上架、推入烘箱、固化烘烤、推出...
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