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[期刊论文] 作者:程正喜, 来源:景德镇陶瓷 年份:2013
程正喜成长于景德镇,熏染于千年瓷都积淀的艺术环境,其粉彩作品在继承传统的工笔技法上融入了中国画的笔墨韵味和意境情趣,小处小心勾勒须眉毕现:大处大胆泼墨,清新扑面,其作品没有......
[期刊论文] 作者:程正喜,, 来源:景德镇陶瓷 年份:2014
构图是"立意"的终极体现,画面是否能够充分"达意",就看作者如何去营造画面的构图。而对于瓷器上花鸟画面的布局安排,自然与传统宣纸上作画的构图形式有所出入,陶瓷这种立...
[期刊论文] 作者:程正喜,, 来源:景德镇陶瓷 年份:2014
莲花出淤泥不染的词句流于唇齿,笔尖却不易描述。瓷板上荷塘平面而冰冷,刻画得生动需要画者的功力和想象。此件作品荷塘开阔、鱼游浅水,荷叶阴阳立体、丝丝入扣,荷花绽开正艳...
[期刊论文] 作者:程正喜, 来源:景德镇陶瓷 年份:2013
[期刊论文] 作者:程正喜, 来源:大江周刊(论坛) 年份:2011
一幅好的工笔花鸟作品应该是感悟和技法结合得比较完美,使欣赏者赏心悦目,从赏心悦目到哲理思辩,在花鸟画的成熟过程中也不断赋予哲学内涵,上升为花鸟的绘画之“道”,花鸟画...
[期刊论文] 作者:程正喜, 来源:江西画报 年份:2011
高温颜色釉瓷是指在釉中掺入不同金属氧化物的着色剂,施在瓷器的坯胎上,再将坯胎放进1300℃以上的高温窑炉中焙烧,烧成后呈现出不同绚丽釉色的瓷器。它以丰富多彩的釉色、风格不同的造型、光亮耀目的色泽,成为陶瓷工艺作品中的闪亮明珠。  高温颜色釉装饰,在景德镇......
[学位论文] 作者:程正喜, 来源:中国科学院研究生院 中国科学院大学 年份:2012
黑硅薄膜是近年由哈佛大学EricMazur教授发明的一种新型的光电材料。黑硅在可见光至长波红外波段都具有无频谱特征的高吸收特性。黑硅制备的二极管在可见光波段具有比常规二...
[期刊论文] 作者:程正喜,, 来源:景德镇陶瓷 年份:2017
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[期刊论文] 作者:程正喜,, 来源:中国陶瓷 年份:2015
近年来,当代釉上彩工笔花鸟瓷画中出现了显著的宋画之风,其形成具有复杂的时代背景,并具有积极的时代意义。当代釉上彩工笔花鸟瓷画的宋画之风在艺术形式上主要表现于题材、...
[学位论文] 作者:程正喜,, 来源:华中科技大学 年份:2020
视觉目标跟踪作为计算机视觉领域最基本的任务之一,对于视频图像智能化分析具有非常重要的意义,在视频监控、无人驾驶和人机交互等诸多应用场景有着广阔的前景和需求。视觉目标跟踪是一个在图像序列或视频中对某个指定的目标进行精确定位的过程,期间面临光照变......
[学位论文] 作者:程正喜, 来源:深圳大学 年份:2016
[期刊论文] 作者:程正喜,程婧,, 来源:中国陶瓷 年份:2016
釉上彩花鸟瓷画中引入山水元素是构建在自然、工艺、历史和审美基础之上的,在当代釉上彩花鸟瓷画中的应用具有宏观取景、构图开阔,层次丰富、内容宽泛,花鸟气韵、山水意境等...
[期刊论文] 作者:程正喜 程婧, 来源:景德镇陶瓷 年份:2015
粉彩瓷中花鸟题材占据着举足轻重的地位,在吸取前人的基础又融合现代工艺技术使得粉彩瓷画又上升了一定的高度。现当代艺术家对这种瓷艺术形式进行着不断地探索和研究,从而构建出新一代独具特色的粉彩花鸟艺术美。  一、花鸟题材运用于粉彩瓷画中技术表现  中......
[期刊论文] 作者:程正喜, 陈永平, 马斌,, 来源:红外与激光工程 年份:2012
采用飞秒激光在六氟化硫气氛中对硅表面进行扫描,在硅衬底上制备了具有超饱和硫重掺杂的黑硅薄膜。采用变温霍尔测试方法,在30~300 K温度范围内测试了黑硅薄膜-硅衬底双层结...
[期刊论文] 作者:程正喜,郭育林,周嘉,, 来源:微细加工技术 年份:2007
通过实验和统计分析方法研究了Al在SF6/O2气体干法刻蚀Si中的增强作用机理.研究表明,Al在SF6/O2刻蚀Si中具有增强作用,而且Al的增强作用基本独立,受其它刻蚀条件的影响较小.A...
[会议论文] 作者:马斌;程正喜;刘强;, 来源:第九届全国光电技术学术交流会 年份:2010
为满足国内军用红外仿真系统的需求,研制了单片式高帧频256×256电阻阵列器件和混成式高占空比128×128电阻阵列器件。介绍了研制目标、技术实现途径、器件主要结构、性能仿真...
[期刊论文] 作者:马斌, 梁平治, 陈世军, 程正喜,, 来源:真空科学与技术学报 年份:2009
本文描述了一种与CMOS工艺完全兼容的热电堆微型热传导真空传感器。该传感器可在商业化的标准CMOS生产流水线上进行流片,配合后续的无掩模体硅各向异性腐蚀工艺,即可完成全部...
[期刊论文] 作者:马斌,梁平治,陈世军,程正喜,, 来源:纳米技术与精密工程 年份:2008
利用商业化的1.2μm标准CMOS生产流水线,配合无掩模体硅各向异性腐蚀工艺,制造了一种热电堆型真空传感器,器件敏感部分尺寸为124um×100μm,由5层薄膜组成,最大厚度为3.2μm.采用......
[期刊论文] 作者:马斌,梁平治,陈世军,程正喜,, 来源:微细加工技术 年份:2008
发展了一种与CMOS工艺完全兼容并可在商业化的1.2μm标准CMOS生产流水线上进行流片的硅基热电堆真空传感器的制造技术与流程。传感器为悬浮的多层复合薄膜结构,其上制作了n型多...
[期刊论文] 作者:仲志磊,程正喜,孙强,徐慧,, 来源:才智 年份:2004
日本理化所作为日本国内乃至全球重要的大型国立科研机构,其在科学研究、人才培养和科研管理等方面的创新一直走在全球前列。但2014年小保方晴子的STAP细胞研究“造假门”将...
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