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[期刊论文] 作者：赵梦璧,
来源：现代科学仪器 年份：1994
l前言1985年由法国卡梅卡公司引进了应用于半导体生产分析的IMS－3f二次离子质谱仪，1986年4月调机使用，在1990年前国内尚有一个维修站，有了问题找他们来帮助解决，在1990年以后维修......
[期刊论文] 作者：赵梦璧,
来源：质谱学报 年份：1992
本文介绍SIMS技术在半导体分离器件剖析中的应用。通过深度分布分析,取得了晶体管有源区表面金属化层和内部掺杂层的深度分布曲线,据此获得晶体管试制的重要工艺参数——基区...
[会议论文] 作者：赵梦璧,
来源：华东三省一市第三届真空学术交流会 年份：2000
本文应用SIMS技术对单管测试放大参数不同的IC芯片进行了分析,发现掺杂的深度不同导致了放大参数的差异。...
[会议论文] 作者：赵梦璧,
来源：1998二次离子质谱学国际研讨会暨第二届全国二次离子质谱学会议 年份：1998
该文介绍ＳＩＭＳ分析技术在半导体生产中几个典型的应用实例：１．在材料分析方面的应用一鉴别杂质成份，２．在工艺分析方面的应用－了解工艺情况，３．在解剖分析方面的应用－－获得器件内部组成成份，以此说......
[学位论文] 作者：赵梦璧,
来源：哈尔滨工程大学 年份：2018
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[期刊论文] 作者：赵梦璧,范捷,
来源：微电子技术 年份：1995
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[期刊论文] 作者：赵梦璧,陈学坤,祁建平,范捷,张忠,
来源：微电子技术 年份：1995
一、引言我公司集成电路生产用铝靶都是进口铝靶，不仅耗费大量外汇，而且时有短缺现象，影响生产进程。如果采用国产靶代替，则不仅大大降低生产成本，又可缓解靶材依赖国外的情况，因此......
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