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[期刊论文] 作者：林开华,郑宣明,
来源：光学机械 年份：1991
本文叙述了离化团束淀积光学薄膜的基本概念及特性,研制了离化团束淀积光学薄膜装置,开展了光学薄膜晶体结构与性能关系的研究。所研制的光学薄膜的牢固性相当好。基底不加温...
[期刊论文] 作者：林开华,郑宣明,
来源：光学机械 年份：1991
研制了离化团束淀积装置。目前的实验结果,使用离化团束淀积技术在玻璃冷基底上镀制的ZnS膜MgF_2膜的机械牢固性较电子束在同样条件下制备的ZnS膜和MgF_2膜较强。用反应性离...
[期刊论文] 作者：郑宣明,吴国平,杨浩,马丽,,
来源：电视技术 年份：2013
传统流媒体在传输时往往要基于具体的平台，这种方式不仅要编写客户端软件，而且要编写针对该平台的服务器软件，缺乏灵活性和通用性。针对这一问题，在分析流媒体特征及UPnPAV体系结......
[期刊论文] 作者：张镭,郑宣明,林杰,刘星元,,
来源：发光学报 年份：2015
利用氟化钇(YF3)代替Li F作为电子注入层材料,以金属铝作为阴极,制备了有机电致发光器件(OLED)。实验结果表明:适当厚度的YF3电子注入缓冲层可以增强阴极的电子注入能力,使得...
[期刊论文] 作者：高劲松,孙连春,郑宣明,王哲,
来源：光学技术 年份：2001
利用射频磁控溅射技术在有机玻璃表面上一次完成表面活化、ITO膜制备、SiO2 减反射膜制备过程。利用低能等离子体对有机玻璃表面进行改性以提高ITO膜的附着力。研究了氧分压...
[期刊论文] 作者：付永启,赵晶丽,李吉学,张新,郑宣明,
来源：光学精密工程 年份：2004
应用光刻和薄膜沉积技术,制作了多级衍射光学元件.对制作误差和影响误差的因素进行了分析.给出了改善对准误差的标校方法,并在实际的多级衍射光学元件制作过程中得到验证....
[期刊论文] 作者：付永启,赵晶丽,李吉学,张新,郑宣明,
来源：光学精密工程 年份：1999
应用光刻和薄膜沉积技术，制作了多级衍射光学元件。对制作误差和影响误差的因素进行了分析。给出了改善对准误差的标校方法，并在实际的多级衍射光学元件制作过程中得到验证。......
[期刊论文] 作者：李香波, 高劲松, 王彤彤, 王笑夷, 陈红, 郑宣明, 申,
来源：光子学报 年份：2004
利用等效折射率概念分析了SiO2单层膜反常色散出现的原因,并在1.1m镀膜机上证明了理论分析的合理性.结果表明,理论分析与实验结果一致,沿薄膜厚度方向折射率的对称周期变化使...
[期刊论文] 作者：高劲松,孙连春,郑宣明,朱世栋,赵晶丽,
来源：光学技术 年份：2001
介绍了一种既高效透过红外光 ,同时又能有效屏蔽电磁干扰的金属网栅薄膜的基本原理和制备工艺。分析了网栅参数对其光学及电磁性能的影响。介绍了利用光刻和镀膜技术 ,在红外...
[期刊论文] 作者：卢振武,钱龙生,廖江红,郑宣明,赵晶丽,
来源：光学精密工程 年份：1993
我们采用了新的算法对二值位相光栅进行了设计,并对制作时可能产生的误差及它们对位相光栅的衍射效率和光强均匀性的影响进行了讨论。我们用薄膜沉积的方法进行了位相光栅的...
[期刊论文] 作者：李红军, 卢振武, 廖江红, 翁志成, 郑宣明, 赵晶丽,,
来源：光学学报 年份：2001
使用薄膜沉积法制作16阶菲涅耳透镜,用它代替常规的光学透镜可实现系统的轻量化、小型化,并增加系统设计的自由度.在标量衍射理论的基础上,应用菲涅耳公式和傅里叶变换分析Si...
[期刊论文] 作者：桑涛,廖江红,卢振武,赵晶丽,郑宣明,翁志成,
来源：中国激光 年份：1996
基于分析和比较各种编码图形的二维二值位相光栅的优缺点．提出了一种设计任意图形编码的二值位相光栅的方法。该方法主要分为两步．首先以获得最高衍射效率为基准．寻求任意图形编......
[期刊论文] 作者：孙德贵,黄颖,何丽明,卢振武,郑宣明,赵晶丽,
来源：光学精密工程 年份：1994
根据近年来光互连对光栅衍时模式的要求，对矩型位相光栅进行了结构设计，以产生只含有０级和±１级，或只含有±１级的两种特殊的衍射模式，分别用于实现光学蝶形互连或操纵器网络......
[期刊论文] 作者：李香波,高劲松,王彤彤,王笑夷,陈红,郑宣明,申振峰,朱华新,
来源：光子学报 年份：2009
利用等效折射率概念分析了SiO2单层膜反常色散出现的原因，并在1.1 m镀膜机上证明了理论分析的合理性.结果表明，理论分析与实验结果一致，沿薄膜厚度方向折射率的对称周期变化使薄......
[期刊论文] 作者：王彤彤,高劲松,王笑夷,宋琦,郑宣明,徐颖,陈红,申振峰,,
来源：光子学报 年份：2007
应用电子枪蒸发纯Ge,考夫曼离子源辅助的方法在Ge基底上沉积了Ge1-xCx薄膜.制备过程中,Ge作为蒸发材料,CH4作为反应气体.通过改变CH4/（CH4＋Ar）的气体流量比（G）,制备了G从40%到85%...
[期刊论文] 作者：王彤彤,高劲松,王笑夷,宋琦,陈红,郑宣明,申振峰,单兆会,,
来源：光学仪器 年份：2006
应用低压反应离子镀的薄膜制备方法在Ge基底上沉积了Ge1-xCx薄膜，随着沉积速度在0．1nm／s-0．9nm／s之间变化，Ge1-xCx薄膜的硬度在2．12GPa-11．066GPa之间可变，当沉积速率为0．9nm／s时，Ge1-xCx......
[期刊论文] 作者：王彤彤,高劲松,王笑夷,宋琦,陈红,郑宣明,申振峰,单兆会,,
来源：光学技术 年份：2007
用低压反应离子镀(RLVIP)的方法在Ge基底上制备了Ge1-xCx单层非均匀增透薄膜。随着沉积速率在0.05~0.4nm/s之间的变化,其折射率在2.31~3.42之间可变。实验结果表明,镀制的Ge1...
[期刊论文] 作者：李香波,高劲松,王彤彤,王笑夷,陈红,郑宣明,申振峰,朱华新,尹,
来源：光子学报 年份：2009
...
[期刊论文] 作者：王彤彤,高劲松,王笑夷,宋琦,陈红,郑宣明,申振峰,单兆会,凌伟,,
来源：光学仪器 年份：2006
应用低压反应离子镀的薄膜制备方法在G e基底上沉积了G e1-xCx薄膜,随着沉积速度在0.1nm/s~0.9nm/s之间变化,G e1-xCx薄膜的硬度在2.12 GPa~11.066 GPa之间可变,当沉积速率为...
[期刊论文] 作者：朱华新,高劲松,王笑夷,王彤彤,陈红,郑宣明,申振峰,李香波,尹少辉,刘小涵,王珊珊,,
来源：光学学报 年份：2008
基于傅里叶变换合成法的基本原理,合成了一个K9基底上的负滤光片,合成的渐变折射率薄膜具有期望光学特性,但实际制备难度很大,因此将其细分为足够多层离散折射率的均匀薄膜,...
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