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[期刊论文] 作者：金聖雄,金原奭,柳在一,李禹奉,李貞烈,,
来源：液晶与显示 年份：2006
成功地利用传统的等离子增强化学汽相沉积技术制备了纳米晶硅。为了提高生长初期的结晶速度,在PECVD设备和干法刻蚀设备中,利用H2/SF6等离子体对Si Nx薄膜表面进行处理。在制...
[期刊论文] 作者：金原奭,金聖雄,崔大林,柳在一,李禹奉,李貞烈,
来源：液晶与显示 年份：2004
为克服大尺寸显示面板中反应时间的延迟问题,采用低阻栅线是十分有益的,同样在小尺寸面板上也存在这种相互匹配的过程.然而,由于Al较高的氧化速度,铝合金和ITO材料接触性能并...
[期刊论文] 作者：金原奭,金聖雄,崔大林,柳在一,李禹奉,李貞烈,,
来源：液晶与显示 年份：2006
为克服大尺寸显示面板中反应时间的延迟问题,采用低阻栅线是十分有益的,同样在小尺寸面板上也存在这种相互匹配的过程。然而,由于Al较高的氧化速度,铝合金和ITO材料接触性能...
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