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[期刊论文] 作者：R.P.Vasquez,,
来源：激光与红外 年份：1985
实验为研制不同的界面层来构成MIS结构,制作了若干InSb(?)样品用以代表不同工艺阶段。经标准的清洗后得到了具有天然氧化层的样品。采用立式反应器进行低温化学汽相淀积,在...
[期刊论文] 作者：R.P.Vasquez,F.J.Grunthaner,董世川,,
来源：红外技术 年份：2004
一、引言窄禁带材料的MOS工艺需要寻找击穿特性合适的、化学稳定性好的高质量介质膜。但是大多数III—V族化合物半导体的原生氧化物化学计量比不稳定,组分不均匀,易水解。因...
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