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[期刊论文] 作者：李成明,王李梅,陈良贤,刘金龙,黑立富,吕反修,,
来源：人工晶体学报 年份：2010
直流电弧等离子体喷射法制备自支撑金刚石膜时,电弧区域可分为弧心、弧干和弧边三个区域。本文运用扫描电子显微镜（SEM）、X射线衍射（XRD）、激光Raman光谱、正电子湮没寿命谱（PAL）和......
[会议论文] 作者：宋中华, 黑立富, 胡宁, 沈美冬, 陆太进, 吕反修,,
来源： 年份：2004
目前,国外多利用微波等离子化学气相沉积法（MPCVD）合成钻石,且已经合成出宝石级的钻石。北京科技大学用直流电弧等离子喷射法（DC arc plasmajet CVD）合成出大尺寸研究用钻石（7.5 m...
[期刊论文] 作者：张营营,李成明,陈良贤,刘金龙,黑立富,吕反修,
来源：金刚石与磨料磨具工程 年份：2010
对直流电弧等离子体喷射化学气相沉积技术,在φ76.2 mm的Si衬底上沉积得到的金刚石膜,通过SEM和激光Raman表征其质量均匀性。为缓解金刚石膜/Si复合片的内应力,采用台阶式冷...
[会议论文] 作者：陈良贤;李成明;陈飞;刘政;黑立富;吕反修;,
来源：2009年全国失效分析学术会议 年份：2009
对利用等离子体喷射法制备的金刚石自支撑膜应用激光制备了带缺口的预裂纹试样，并利用柔性约束法在缺口顶端引入尖端预裂纹，应用带扫描电子显微镜的高温电液伺服疲劳试验机进行......
[期刊论文] 作者：张营营,李成明,陈良贤,刘金龙,黑立富,吕反修,,
来源：材料热处理学报 年份：2011
采用射频磁控反应溅射法在金刚石自支撑膜衬底上沉积了AlN薄膜,XRD结果表明得到了(002)面择优取向的AlN薄膜;AFM的表面形貌结果显示薄膜表面平整,晶粒均匀,表面粗糙度为2.97...
[会议论文] 作者：宋中华,黑立富,胡宁,沈关冬,陆太进,吕反修,
来源：2015中国珠宝首饰学术交流会 年份：2015
目前,国外多利用微波等离子化学气相沉积法(MPCVD)合成钻石,且已经合成出宝石级的钻石.北京科技大学用直流电弧等离子喷射法(DC arc plasma jet CVD)合成出大尺寸研究用钻石(7.5mm×7.5mm×1.01mm),本文利用各种光谱仪对其光谱特征进行了测试分析.其红外光谱谱......
[期刊论文] 作者：田寒梅,刘金龙,陈良贤,魏俊俊,黑立富,李成明,,
来源：人工晶体学报 年份：2015
采用微波等离子体化学气相沉积（microwave plasma chemical vapor deposition,MPCVD）技术系统地研究了GaN的分解机制。结果表明微波等离子体富氢环境促进了GaN的分解反应,分解...
[期刊论文] 作者：吕反修,宋建华,唐伟忠,黑立富,李成明,陈广超,,
来源：热处理 年份：2011
CVD金刚石自支撑膜已经作为一种崭新的工程材料出现,其应用日益广泛,急切需要对其力学行为进行深入了解。为此对有关金刚石膜的断裂强度和断裂韧度的研究,以及金刚石膜的断裂...
[期刊论文] 作者：刘皓,陈良贤,魏俊俊,刘金龙,黑立富,李成明,,
来源：材料热处理学报 年份：2016
采用射频磁控反应溅射在金刚石/Si衬底上制备不同Sc含量的Sc_xAl_(1-x)N薄膜,并研究了Sc掺杂对薄膜沉积速率、表面粗糙度、晶体取向及压电性能的影响。结果表明,薄膜沉积速率...
[期刊论文] 作者：刘杰,黑立富,陈广超,李成明,唐伟忠,吕反修,
来源：新型炭材料 年份：2013
利用微波等离子气相沉积法在5％～20％的氢气浓度下，制备出了超纳米金刚石薄膜（UNCD）。利用扫描电子显微镜、XRD、表面轮廓仪及拉曼光谱研究了氢气浓度对超纳米金刚石薄膜的微结构、形......
[期刊论文] 作者：李成明,陈良贤,刘金龙,魏俊俊,黑立富,吕反修,
来源：金刚石与磨料磨具工程 年份：2018
文章综述了以直流电弧等离子体喷射法制备自支撑金刚石膜的研究新进展,对电弧特性、金刚石晶体质量、力学性能、光学性能及热学性能进行了介绍。研究表明：不同电弧区域的金刚......
[期刊论文] 作者：朱瑞华,刘金龙,陈良贤,魏俊俊,黑立富,李成明,,
来源：人工晶体学报 年份：2015
采用带有半封闭式气体循环系统的100千瓦级直流电弧等离子体喷射CVD设备制备三组不同质量的金刚石膜,通过532 nm激光激发金刚石膜的拉曼光谱时,除1332 cm-1金刚石一阶拉曼峰...
[期刊论文] 作者：刘金龙,田寒梅,陈良贤,魏俊俊,黑立富,李成明,
来源：新型炭材料 年份：2016
本文研发了一种简便有效的在GaN半导体衬底上直接生长纳米金刚石膜的方法。研究发现,直接将GaN衬底暴露于氢等离子体中5 min即发生分解,且随着温度从560℃升高至680℃,这种分...
[期刊论文] 作者：刘金龙,田寒梅,陈良贤,魏俊俊,黑立富,李成明,,
来源：新型炭材料 年份：2016
本文研发了一种简便有效的在GaN半导体衬底上直接生长纳米金刚石膜的方法。研究发现,直接将GaN衬底暴露于氢等离子体中5 min即发生分解,且随着温度从560℃升高至680℃,这种分...
[期刊论文] 作者：刘杰,黑立富,陈广超,李成明,唐伟忠,吕反修,,
来源：新型炭材料 年份：2013
利用微波等离子气相沉积法在5%～20%的氢气浓度下,制备出了超纳米金刚石薄膜(UNCD)。利用扫描电子显微镜、XRD、表面轮廓仪及拉曼光谱研究了氢气浓度对超纳米金刚石薄膜的微结...
[期刊论文] 作者：刘杰, 黑立富, 陈广超, 李成明, 宋建华, 唐伟忠, 吕,
来源：人工晶体学报 年份：2014
采用非循环直流喷射（直喷式）直流电弧等离子化学气相沉积法,在Ar/H2/CH4气氛下,成功制备了金刚石单晶外延层。试验采用的是3 mm×3 mm×1.2 mm的高温高压Ib型金刚石单...
[期刊论文] 作者：孟宪明,王凤英,黑立富,姜春生,唐伟忠,吕反修,,
来源：材料科学与工艺 年份：2009
用强电流直流伸展电弧化学气相沉积金刚石薄膜装置，在CH4-Ar和CH4-H2—Ar气氛中沉积了纳米金刚石薄膜，研究了沉积气氛中H2加入量和沉积压力对金刚石薄膜显微组织和生长机制的影...
[期刊论文] 作者：孟宪明,唐伟忠,黑立富,王凤英,姜春生,吕反修,,
来源：金刚石与磨料磨具工程 年份：2007
本文研制了强直流伸展电弧金刚石涂层沉积设备，它可产生长达400mm的等离子体弧柱，可沉积金刚石涂层的区域大，能够在复杂形状硬质合金刀具上沉积金刚石涂层，有利于实现金刚石涂层......
[期刊论文] 作者：文星凯,魏俊俊,刘金龙,陈良贤,黑立富,李成明,
来源：金刚石与磨料磨具工程 年份：2013
用100 kW级直流等离子体喷射系统制备金刚石自支撑膜,采用机械研磨方法对其进行平坦化加工。实验研究了不同研磨盘转速和不同压力对研磨的影响,分别用扫描电镜、数显千分表和...
[期刊论文] 作者：陈广超,兰昊,李彬,戴风伟,Askari,J,黑立富,宋建华,
来源：半导体学报 年份：2007
采用DC Arc Plasma Jet CVD方法制备了金刚石自支撑膜体,考察了温度分布、沉积腔压和CH4/H2等沉积参数对所制备金刚石膜体中的晶粒尺寸的影响.实验发现沿温度降低的方向和增...
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