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[期刊论文] 作者：张赞彬,,
来源：集成电路应用 年份：2006
浸没式光刻和亚波长光刻技术的引进，光刻变得更为复杂；随着光阻厚度变薄和亚波长透镜的使用．对缺陷进行有效管理的需求逐渐增加。本文侧重于用PCM（Photo Cell Monitoring）缺陷检测......
[期刊论文] 作者：张赞彬,,
来源：集成电路应用 年份：2006
当晶圆厂转向300mm、130纳米和90纳米工艺，并随着新的材料和工艺方法的引进，都为成品率管理带来独特的挑战和机会，那就是如何确保300mm晶圆缺陷计划的新重点。...
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