二维电子气材料相关论文
等离子体刻蚀是集成电路制造和MEMS工艺中常用的工艺步骤，随着等离子体刻蚀工艺的发展，越来越多的领域应用到这项技术。目前等离子体......
用射频等离子体辅助分子束外延技术(RF-MBE)在C面蓝宝石衬底上外延了高质量的GaN膜以及AlN/GaN周期结构极化感应二维电子气材料.所......
介绍了用NH-MBE技术在蓝宝石C面上外延的高质量的GaN单层膜以及GaN/AlN/GaN 极化感应二维电子气材料。外延膜都是N面材料。形成的......
