化学湿法腐蚀相关论文
在垂直腔面发射激光器结构中掩埋AlAs层采用选择性湿氮氧化工艺形成电流限制波导的基础上,针对可见光波段的要求,对掩埋的选择性氧......
研究了光栅形貌(形状、深度、占空比等)对DFB激光器性能的影响，通过比较分析选择矩形光栅进行相关工艺的摸索。实验中采用电子......
利用动态掩膜腐蚀技术 ,研究了 HF/ Cr O3腐蚀液对各种不同组分的 Alx Ga1 - x As(x =0 .3,0 .5 ,0 .6 5 )的腐蚀速率及腐蚀表面形......
提供了一种实现片上太赫兹天线集成器件光电导开关材料低温GaAs(LT-GaAs)外延层的转移工艺,使用HNO3-NH4OH-H2O-C3H8O7·H2O溶液-H......
研究了几种腐蚀液对半导体激光器阵列外延材料的腐蚀过程，其中HF(40％)／CrO3(33wt%)腐蚀液比较适合，用扫描电子显微镜(SEM)对其腐蚀情况......
研究了不同腐蚀体系对InAs／GaSb超晶格材料台面的刻蚀，并从中选择了由氢氟酸、酒石酸和双氧水构成的酒石酸腐蚀体系。该体系较适合In......
提供了一种实现片上太赫兹天线集成器件光电导开关材料低温GaAs（LT-GaAs）外延层的转移工艺,使用HNO_3-NH_4OH-H_2O-C_3H_8O_7·H......
InP基HEMT器件制作中,栅槽刻蚀工艺是形成良好的肖特基接触栅的关键工艺。针对这一问题,研究了用丁二酸和H2O2混合液作为InP基HEMT......
金刚石薄膜具有高熔点、高热导率、高硬度、绝缘性好、抗腐蚀性强、介电常数小、宽带隙、抗辐射、化学稳定性好等一系列无与伦比的......
论述了用湿法腐蚀电子束光刻的均匀光栅DFB激光器亚微米光栅的过程,研究了几种腐蚀液对半导体激光器外延材料中InP的腐蚀过程.用扫......
