双层光刻胶相关论文
采用软模板压印技术和双层光刻胶技术在基于图形衬底制备的GaN基蓝光外延片上制备p-GaN和 ITO 表面纳米图形的大功率LED.纳米图形......
超导Josephson隧道结是实现超导量子比特的基本元件.本文介绍了一种利用电子束曝光技术和电子束斜蒸发技术相结合的方法来制备铝超......
利用电子束曝光法对双层光刻胶进行曝光来制备悬空掩模结构,在此基础上利用电子束蒸发系统采用倾斜角度蒸发法制备铝超导薄膜,采用......
亚微米尺寸金属电极在HEMT等半导体电子学器件中有重要的应用,是器件制作中的关键工艺，对器件性能有着重要影响.本文针对HEMT等半导......
介绍了利用AZ5214光刻胶及ZKPI-305IID型非光敏聚酰亚胺制作的两种不同的剥离层,即双层AZ5214和ZKPI+AZ5214。此两种剥离工艺简单......
介绍了一种适用于厚膜剥离的图形反转双层胶光刻技术，采用图形反转胶和正型光刻胶，选择合适的光刻工艺形成了光刻胶“倒梯形”的剖面......
