基片曲率法相关论文
残余应力直接影响镀膜膜层的稳定性与可靠性.为减小薄膜的残余应力,提高镀膜膜层的可靠性,在不同溅射气压、不同镀膜温度条件下,在......
该文使用射频磁控溅射的方法制备了Ag/Fe、Ag/Co、Ag/Cu、Cu/Fe、Al/TiAl等几组多层薄膜材料,依据基片曲率法的原理研制了一套薄膜......
界面能γ是界面科学研究的基础,但固-固相界面能难于测量.1993年D.Josell和F.Spaepen提出一种新颖的方法:多层膜零蠕变法(Multilay......
采用基片曲率法设计和制作了一种测量薄膜应力的装置,它具有简单、无损伤、快速、易于操作、精度高的优点.使用该装置测量了射频磁......
针对压印光刻工艺实现图章保真复型对阻蚀胶薄膜的均匀度和应力分布的要求，对匀胶过程中的时间、转速和加速度等参数进行了分析，并采......
频闪视觉测量和频闪干涉测量代表了目前先进的微机电系统动态测试技术,尤其在非接触无损测量技术有重要意义.通过微机电三维静动态......
利用磁控溅射的方法在单晶S i和非晶S iO2基片上制备了TiN i和TiN iCu形状记忆合金薄膜,并利用示差扫描量热法和基片曲率法研究了......
多孔硅薄膜是一种具有优良力热光电性能的纳米半导体材料,在MEMS工艺中具有广阔的应用前景,其力学性能的研究具有非常重要的意义。......
采用磁控溅射技术在复杂形状工件表面沉积薄膜过程中,工件各表面与溅射靶之间存在不同角度,这造成了薄膜的斜入射沉积。在斜入射沉......
在对基片曲率法常用的Stoney公式进行必要修正的基础上,提出了适合计算SU-8胶层内应力的理论模型,并采用轮廓法直观地测量了内应力......
在室温(RT)下,采用直流(DC)磁控溅射在聚碳酸酯(PC)衬底上制备Ga掺杂ZnO(GZO)薄膜。通过X射线衍射(XRD)与基片曲率方法研究薄膜的......
利用多层膜零蠕变法,直接测量 Si( 111)单晶片上沉积的 Ag/Ni多层膜界面自由能.通过基 片曲率法实时测量 Ag/Ni多层膜升温退火过程......
