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掠角沟道和背散射分析钇离子注入硅合成硅化钇的结构
Y离子注和主硅得到特性优良的硅化钇薄层。采用高深高分辨率的掠角背散射和掠角沟道技术分析了注入层结构。结果发现注入层是具有不......
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掠角沟道分析
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