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目前一个庞大的半导体设备产业,支撑着快速发展并走向极限的半导体产业.在进入新千年的时候,半导体技术即将跨越特征线宽100nm技术......
为适应超大规模集成电路器件的发展，微电路图形的特征线宽愈来愈细的特点，发展了电子束光刻及Ｘ射线光刻，而Ｘ射线光刻由于其极高的分辨率......
半导体及显示器工业的制造方法是在硅半导体或玻璃基材上制造电子线路,而黄光微影是定义图形的关键技术,其中包括涂布、曝光、显影......
